第二十六屆中國國際工業博覽會上，一台被視為高端光刻機「心臟」的極紫外（EUV）光源系統樣機首次公開展出。這台由朗道燧岩（上海）科技有限公司（下稱「朗道燧岩」）研發的樣機，是目前公開可見進度最靠前的國產EUV光源系統。

極紫外（EUV）光源被譽為光刻機「心臟」

綜合《觀察者網》、《解放日報》在7nm及以下先進製程晶片製造中，EUV光源是不可或缺的三大核心零部件之一。目前，ASML是全球唯一能夠製造並交付商用EUV光刻機的廠商。

而光刻機的「心臟」——EUV光源，其壟斷壁壘同樣堅不可摧。EUV光源的技術主流為 LPP（激光照射滴錫等離子體，Laser-Produced Plasma）。ASML於2013年收購了全球最頂尖的光源巨頭Cymer，完成了對高功率EUV光源技術鏈條的徹底鎖死。

值得注意的是，現場工作人員透露，朗道燧岩的（EUV）光源系統國產化率已達90%，絕大多數核心零部件均為自主研發，技術路線與國際龍頭廠商保持一致，目前可用於晶片曝光測試。

樣機亮相並不等於短期內能夠實現大批量生產

不過現場工作人員亦坦言，該光源系統距離真正的商業量產仍需3至5年時間。當前面臨的主要挑戰在於輸出功率的進一步提升以及長期運行的穩定性。

商用EUV光刻系統通常要求光源功率達到數百瓦級別，並需在長時間高強度運轉中保持極高可靠性。目前的樣機主要完成了「從0到1」的工程驗證，距離工業級應用仍有明顯差距，後續仍需依靠產業鏈協同攻堅。

值得注意的是，朗道燧岩官方資料顯示，公司旗下產品已取得階段性突破。其中FlintNano LPP-OXXO（低功率EUV光源系統）目前已處於產品化階段。

其驅動雷射功率為1000W，雷射頻率1至20kHz，轉換效率大於2%，EUV能量大於15W，等離子體尺寸為60微米，持續工作時間更超過100小時。而FlintMicro-LPP 系列（高功率EUV光源系統）已順利完成原理論證。

公開資料顯示，朗道燧岩成立於2024年，創始人王豪博士團隊以北京清華大學氣體放電等離子體實驗室的研發成果為基礎，聚焦LPP-EUV曝光光源技術。

公司成立以來備受資本青睞，於2025年10月獲得張江高科旗下燧玥創投的天使輪融資2026年1月完成天使+輪融資，並於2026年7月順利完成A輪融資，投資方包括沃衍資本、中芯聚源等，目前已入駐上海集成電路設計產業園。