英媒報道，內地半導體龍頭中芯國際正在測試由上海初創公司宇量昇開發的深紫外線（DUV）光刻機，此舉被視為內地推動半導體產業自主化的重要里程碑，若能成功量產，將幫助內地突破美國的出口管制。

上海宇量昇科技股份有限公司為深圳半導體設備製造商新凱來的子公司，位於華為半導體生態系中，主要研發半導體設備製造，尤其主攻光刻機。

報道指，該款DUV光刻機採用與荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）系統類似的「浸沒式」技術。消息人士透露，這款DUV光刻機的主要零組件已實現在地化生產，但仍有部分零件需依靠進口，目前該公司正致力於完全自主化生產。

報道提到，中芯國際的初期測試結果令人鼓舞，但新型DUV設備通常需要至少一年的持續調校，才能達到量產所需的穩定性和良率。這款28奈米（nm）DUV光刻機利用多重圖案化技術，目標是生產7奈米等級的晶片，理論上也可製造5奈米晶片，但良率較低。