【逃犯條例】3男涉襲警案再押後 控方指其中一案涉另外16人
撰文：林樂兒
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《逃犯條例》修訂案引發連串示威活動，三宗8月份在沙田警署外及機場內涉襲警的案件今（10日）再提堂，控方透露沙田的案件除了被告外，尚有16名涉案人士。裁判官將所有案件押後至12月6日再訊，以待警方再作調查及諮詢法律意見。3名被告續准保釋。
區嘉偉（25歲，無業）涉於8月12日在沙田禾輋邨順和樓襲襲楊竣然。據悉，他疑於被捕時用手抓傷楊的下巴。控方今透露，此案另有16名涉案人士。而按報導，811晚上有一批示威者聚於沙田警署外，警方約於凌晨一時驅散人群，並拘捕17名男女。
至於8月13日的機場案件，區得福（27歲，報稱無業）涉於當日在一號客運大樓第8層以雷射筆射向警長李智健的眼睛，而彭及鍵（28歲，工程師）則被指於同一樓層的另一處打警員鄧東華的頭部一下。控方表示會檢驗涉案的雷射筆。
區嘉偉及區得福續以原有條件保釋；彭及鍵申請更改擔保條件，獲撤銷宵禁令，但仍不得離港，另須多加2000元保釋金。
案件編號：STCC3185、STCC3210-11/2019
