【逃犯條例】3男涉襲警案再押後 控方指其中一案涉另外16人

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《逃犯條例》修訂案引發連串示威活動,三宗8月份在沙田警署外及機場內涉襲警的案件今(10日)再提堂,控方透露沙田的案件除了被告外,尚有16名涉案人士。裁判官將所有案件押後至12月6日再訊,以待警方再作調查及諮詢法律意見。3名被告續准保釋。

區嘉偉(25歲,無業)涉於8月12日在沙田禾輋邨順和樓襲襲楊竣然。據悉,他疑於被捕時用手抓傷楊的下巴。控方今透露,此案另有16名涉案人士。而按報導,811晚上有一批示威者聚於沙田警署外,警方約於凌晨一時驅散人群,並拘捕17名男女。

至於8月13日的機場案件,區得福(27歲,報稱無業)涉於當日在一號客運大樓第8層以雷射筆射向警長李智健的眼睛,而彭及鍵(28歲,工程師)則被指於同一樓層的另一處打警員鄧東華的頭部一下。控方表示會檢驗涉案的雷射筆。

區嘉偉及區得福續以原有條件保釋;彭及鍵申請更改擔保條件,獲撤銷宵禁令,但仍不得離港,另須多加2000元保釋金。

案件編號:STCC3185、STCC3210-11/2019



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