自2007年首部 iPhone 誕生以來，如今距離 iPhone 20 周年（2027年）只餘兩年，外媒指Apple正籌備推出一款名為 「iPhone XX」 的紀念旗艦機，並將在設計與技術上再度突破，將於有屏下 Face ID。

無邊螢幕

根據多位供應鏈分析師與業界消息，Apple的設計團隊多年來一直以一塊完整玻璃為終極目標，即打造一部沒有開孔、沒有邊框的 iPhone。傳聞指 iPhone XX 將採用四邊微曲的全景屏幕，令畫面視覺延伸至機身邊緣，達到幾乎零邊框的效果。

這項設計挑戰極高，尤其在耐用度與防護性上。為此，Apple預計將採用升級版 Ceramic Shield 2 保護玻璃，具更高抗刮及抗摔性能。外媒指出，若此設計最終落實，iPhone XX 將呈現出純玻璃機身的觀感，幾乎看不到任何物理邊界。

屏下Face ID與前鏡頭

為實現無開孔屏幕，Apple勢必要解決 Face ID 與前置鏡頭的整合難題。Apple正研發屏下 Face ID 技術，讓 TrueDepth 感應模組隱藏於 OLED 面板下方，藉精密的透光控制完成人臉辨識。

目前市場傳聞不一。部分分析師認為，Apple已接近完成 Face ID 屏下技術的量產測試，可能在 iPhone XX 首度亮相；而前鏡頭則以極小打孔方式保留。這項技術若能落實，將使 Dynamic Island 正式退場，iPhone XX 成為首款真正實現一體化顯示的 iPhone。

OLED顯示技術升級　亮度更高、功耗更低

屏幕技術亦是 iPhone XX 的重點升級之一。Apple計劃採用具 COE（Color Filter on Encapsulation） 技術的新一代 OLED 面板。此技術可移除傳統偏光層，令顏色濾光層直接覆於封裝層上，不但令整體面板更薄，亦可讓光線穿透率提升約20%，進而提高亮度並減少能耗。

為改善去除偏光層後的反光問題，Apple將採用進階防眩塗層，令屏幕在強光環境下仍清晰可見。同時，iPhone XX 會新增一種微凹形光擴散層，使曲面四角的亮度分布更平均，帶來更真實、無邊際的觀感體驗。

攝影系統全面革新

除了外觀與顯示技術，iPhone XX 的影像系統亦被視為另一大焦點。消息指Apple將採用全新自家研發的 HDR 感光元件，能在單張照片中捕捉高光與陰影細節，動態範圍最高可達 20 段曝光層次，接近專業電影攝影機級別。

新感光元件將與「Fusion Camera」系統整合，透過人工智能自動辨識場景光源，動態調整光圈與快門速度。Apple亦考慮導入「可變光圈」鏡頭技術，配合進階影像處理晶片，實現夜拍降噪、景深自然化與即時 HDR 視覺預覽。

在錄影方面，iPhone XX 將支援 8K 高幀率拍攝及改良版 ProRes 影像格式，針對專業創作者提供更高影像寬容度與色彩控制空間。

Apple自研數據晶片與2奈米A系列核心

另一項重大技術突破，來自Apple自家通訊晶片的全面導入。iPhone XX 將搭載 Apple 設計的 5G Modem，取代現有的 Qualcomm Apple。蘋果計劃透過深度整合 SoC 架構，使數據傳輸更節能、延遲更低，並配合 AI 網絡優化演算法，提升訊號穩定性與自動切換效率。

同時，iPhone XX 將採用第二代 2奈米製程的 A21 晶片，由台積電獨家代工。與現行 A19 Pro 相比，效能提升預計達 15%，而功耗則可進一步降低三成。這意味新機在執行 AI 運算、3D 繪圖及相片後製時，能以更低溫度與更長續航時間運行。

值得一提的是，Apple計劃將 2 奈米製程推向全系列裝置，包括 iPhone、MacBook 及 Vision Pro，形成統一架構的多裝置運算平台。