據美國科技媒體《The Information》7月27日報道，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光刻機（DUV），預計今年內向中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要晶片製造商交付首批約5台設備，2027年產量計劃提升至約20台。

主打28納米晶片生產　可滿足7nm晶片製造需求

路透社據美國科技媒體《The Information》報道，兩名不具名知情人士稱，一家總部位於上海的企業已啟動浸沒式DUV光刻機的小規模批量生產。

為加快研發進度，該公司整合了國內多家企業的浸沒式DUV研發團隊，其中包括政府支持的晶片設備初創企業上海宇量昇科技。但報道未有披露這家獲得國家支持的製造商具體名稱。

據了解，浸沒式DUV光刻機用於在矽晶圓上印製電路圖形。在相關限制使中國晶片製造商無法獲得更為複雜、適用於更先進制程的極紫外光刻機（EUV）後，浸沒式DUV成為中國晶片製造商目前能夠使用的最先進光刻設備。

另據中國科技自媒體《快科技》，這款國產光刻機主打28納米成熟製程晶片生產，依託多重圖形化曝光工藝，還可滿足7納米級別晶片的製造需求。

按照產能規劃，該設備今年計劃生產約5台，2027年產量提升至約20台。首批設備將交付給中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。

中芯國際去年已對國產光刻機展開測試

《金融時報》去年9月曾報道，中芯國際測試的國產浸沒式DUV光刻機來自上海企業宇量昇。報道指出，宇量昇與深圳國資控股的新凱來存在資本或項目聯繫，外界有時將其稱為「新凱來系」光刻機。該設備當時仍處於測試、調校階段，目標是在2027年前後具備商業量產條件。

在美國醞釀進一步收緊光刻設備對華出口及維修服務限制之際，這項突破標誌着中國在推進半導體設備國產化、降低對海外光刻設備依賴方面邁出關鍵一步。

ASML股價應聲急挫

據路透社，長期主導光刻機生產的荷蘭ASML（艾司摩爾）對此未予置評，但其股價應聲下跌。阿姆斯特丹市場星期一整個上午均處於上漲狀態，但ASML的股價下滑8.3%，跌至6月初以來的最低水平。

在歐美的其他同行的股價也受上述消息的影響。荷蘭ASM國際股價下跌7.3%，荷蘭貝西半導體股價下挫9.9%，美國應用材料公司股價下滑6.7%，美國泛林集團股價則跌了7.9%。