華為發布V2版「韜定律」論文 補入大量工程細節和實測數據
《每日經濟新聞》報道,據中國科學院科技論文預發佈平台ChinaXiv最新公示論文,華為半導體負責人何庭波於7月3日發布《面向多層級電子系統的時間縮微理論》(「韜(τ)定律」)V2版本。
報道指,相較5月25日發布的V1版本,新版論文在原有理論框架基礎上,補充了大量工程落地細節、實測量化數據與產品演進路線,進一步完善了以時間常數τ為核心的後摩爾時代縮放理論體系。
在工程落地方面,V2版本深度闡釋核心技術LogicFolding的齒比(gearratio)概念,在混合鍵合間距接近頂層金屬布線尺寸時,3D設計空間從傳統的「宏塊級離散優化」轉向「單元級連續優化」,可實現全局最優的垂直邏輯劃分,突破了傳統3D堆疊僅能按功能塊分層的局限。
V2版還新增量產實測數據表,明確給出Kirin2026與基準Kirin9030Pro的電壓、頻率、歸一化功耗、面積與功率密度參數。
「韜」光養「芯」|華為的「韜定律」是甚麼? 跟摩爾定律有何不同?
據此前報道,在5月25日召開的2026國際電路與系統研討會上,華為公司董事、半導體業務部總裁何庭波發佈「韜(τ)定律」,「韜」取自電路學中象徵訊號切換時間常數的希臘字母 τ(Tau)。這是中國在全球半導體領域首次提出或能指導產業發展的新原則。
有別於傳統摩爾定律執着於縮小電晶體體積的「幾何縮微」,「韜定律」聚焦於「時間縮微」,倡導從電晶體、電路、晶片到系統進行全棧式軟硬芯協同設計,並利用突破性的「邏輯摺疊」三維立體技術壓縮訊號時延。
華為預計,首款採用該技術的新一代晶片將於2026年面世;至203 年,基於「韜定律」的高端晶片,其電晶體密度將有望達到同等1.4納米先進製程水平。
內媒「快科技」則分析V2版本的重點有三。其一是將原有零散論述整合為完整內容,新增τ分層時空模型、LogicFolding邏輯折疊架構、鍵合界面截面、Unified Bus互連架構、Hi-ONE光引擎等核心技術的原理示意圖與實物剖面圖。
第二則是公開麒麟2026與基準晶片麒麟9030 Pro的電壓、工作頻率、歸一化功耗、晶片面積、功率密度等關鍵參數,用量產晶片的實際性能表現驗證韜定律的實際應用效果。
第三是明確不同應用場景的技術迭代節點,在移動端場景補充了TSV從頂層金屬下移至M6層、多有源層堆疊等中長期演進路徑,給出可落地的技術規劃節奏。