長鑫存儲年內推4F²架構DRAM 消息衝擊科企股價 馬斯克也發聲

撰文:李健民
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中國長鑫存儲(CXMT)取得突破,宣布今年內實現新一代DRAM(動態隨機存取記憶體)技術4F²(4F Square) 商業化,引發市場關注,且消息造成三星電子及SK海力士股價相繼下跌。世界首富馬斯克(Elon Musk)也發聲,直言一旦中國掌握特定產品的製造技術,其規模化量產能力往往會超越全世界其餘地區的總和。

長鑫存儲的新消息引發不少韓媒關注,《朝鮮日報》報道,DRAM由數十億個用於存儲數據的基本單元組成,其單元結構的最小線寬被稱為特徵尺寸(Feature Size)。新技術最大優勢在於無需將電路做得更微細,就能在相同面積的半導體上增加最多50%的單元數量,這不僅能在同等大小的晶片上存儲更多數據,或者製造出相同容量但體積更小的晶片,以及增加每張晶圓產出的晶片數量。

消息一出,引發韓國半導體企業競爭力優勢將消失的危機論,雖然對於長鑫是否有能力將該計劃完全實現尚未得到認證,但報道指,韓國半導體業的繁榮期可能提前結束的機會擴大。

與此同時,韓國和美國的代表性半導體企業股價相繼下挫,三星電子13日跌7.39%,SK海力士也跌10.09%,而美國美光亦同樣出現下跌。

SpaceX及特斯拉行政總裁馬斯克(Elon Musk)表示對中國在記憶體的產能快速擴張感到擔憂。(Reuters)

特斯拉(Tesla)創辦人馬斯克於社交平台警告,對中國市場記憶體追趕速度提高產生疑慮,表示在中國掌握如何製造某種產品時,其大規模生產能力亦會提升至全世界生產的總和。

他提及中國在鋰電池與太陽能領域的發展,表示雖然SpaceX在火箭運載重量方面領先全球,但中國卻承擔SpaceX以外大部份太空運載量。

他亦表示中國在目前及下一代低功耗雙倍資料率(LPDDR5、LPDDR6)的技術方面快速追趕,但堆疊式高頻寬記憶體(HBM)這類新晶片架構「將更難解決」。

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