最近，一條消息突然刷屏。日本東京應化、JSR、信越化學、富士膠片——四家控制全球高端光刻膠市場90%的日本企業，宣佈全面停止接收中國ArF/EUV光刻膠新訂單，KrF光刻膠新增訂單大幅壓縮；撤出全部在華駐場工藝技術團隊，售後、調試、配方適配全部中斷；原有存量合同交貨周期拉長至6-8個月，實際交付量大幅縮水。

消息傳出後，大量媒體、自媒體和投資賬號迅速跟進。有人說：這是日本對中國半導體產業最嚴厲的一次封鎖。還有人則表達相反的觀點，認為這是中國光刻膠國產替代的歷史性轉折點。

既然影響這麼大的事情，我們肯定要談談。但當真正開始驗證這條消息的時候，卻很多關鍵訊息對不上。

原文提到，2026年第一季度中國從日本進口的半導體級光刻膠111.3噸，跌了95%。1月是69.2噸，2月直接清零，3月為42.1噸。但還有消息說，ArF/EUV已連續5個月保持零進口狀態，高端KrF也只有零星到貨，目前晶圓廠只能支撐1-2個月。

但我們查證了海關總署的訊息，最新1-5月的數據中，中國自日本進口光刻膠數量分別達到1622噸、1495噸、1958噸、1910噸和1939噸，五個月累計超過8900噸。雖然沒有把ArF/EUV光刻膠單列出來，但整體來看，無論從單月數據還是累計規模來看，都沒有出現「斷崖式下跌」的跡象。

更有意思的還在後面。我們查到，早在去年11月，日本停止出口中國光刻膠的消息就已經傳過一波了。不過當時涉及的是佳能、尼康以及三菱等三家日本公司，但其實這三家公司並不生產光刻膠，而是光刻機、零件以及光刻膠的原材料。當時就有媒體闢謠，這是國內股票投機者散布的。

2025年12月3日，有消息表示日本內閣官房長官木原稔在新聞發布會上還否認了關於日本已停止向中國出口光刻膠的報道。

此次斷供消息內容和上次如出一轍。雖然還沒有日本官方闢謠，但從事件開始到爆發，日本專業媒體、日本四大企業的官網以及國內專業媒體，都未對這一「重大事件」進行報道。

相比較討論日本是否會斷供，更值得思考的是，這條消息甚至連最基本的證據鏈都不完整，為什麼它依然能夠在短時間內引發如此大的關注？

答案其實並不複雜。因為相比消息真假，人們更擔心的是另一件事——如果有一天高端光刻膠真的被切斷供應，中國半導體產業會受到多大影響？

而要回答這個問題，就必須先弄清楚光刻膠究竟是什麼，以及它為什麼會成為先進晶片製造中最關鍵的材料之一。

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為什麼高端光刻膠能卡住晶片咽喉？

一聽到光刻膠，大家很容易聯想到「光刻機」，事實上，這兩個在工藝上確實屬於前後腳程序。如果把光刻機比作一台投影儀，那光刻膠就相當於感光底片。光刻機負責把圖案照到晶圓上，光刻膠負責把圖案「記」下來，隨後再經過刻蝕等工藝，把圖案真正轉移到晶片表面。

但如果只是把光刻膠理解成一種「感光材料」，顯然無法解釋為什麼一則未經證實的傳聞會引發如此大的關注。

事實上，在半導體產業鏈裏，光刻膠雖然不像光刻機那樣昂貴，也不像晶片那樣直接面向市場，但在當下先進製造中，它的體量雖小，但足以卡住晶片製造的咽喉。

把晶片製造理解成在晶圓上「畫畫」，光刻機決定的是能把筆畫畫得多細，而光刻膠決定的是這些筆畫會不會變形、斷裂、粘連，最終能否形成合格產品。

對於成熟製程來說，光刻膠的問題還不算特別突出。但隨着製程進入7納米、5納米甚至3納米時代，光刻膠的問題就出現了。

光刻膠產業長期存在一個著名的「三角難題」——分辨率、靈敏度和線邊緣粗糙度如何平衡。分辨率越高，才能刻出更細的線路；靈敏度越高，曝光速度越快，生產效率越高；線邊緣粗糙度越低，晶片性能和良率越穩定。但問題在於，這三個指標往往互相制約。提高靈敏度，可能導致化學反應擴散過度，圖案邊緣變得粗糙；追求極限分辨率，又可能犧牲生產效率和穩定性。所以光刻膠研發本質其實是在這些相互矛盾的性能指標之間尋找平衡。

而到了EUV時代，問題進一步升級。過去ArF光刻主要依賴193納米激光完成曝光，但EUV使用的是13.5納米極紫外光，更短的波長帶來更高的清晰度，但能量提高數十倍帶來的問題是參與的光子數量減少，因此更容易造成隨機缺陷。

對於先進晶片而言，這種缺陷往往意味着整片晶圓報廢。也正因為如此，近年來國際半導體產業關於EUV技術的討論，越來越集中在光刻膠、隨機缺陷和材料體系本身，而不僅僅是光刻機設備。

光刻膠和其他材料還有所不同，他不是供應商研發出產品，然後客戶直接買來用。高端光刻膠往往是供應商和客戶一起開發、一起驗證、一起優化。換句話說，光刻膠的難，不只是在材料生產，考驗材料科學能力，更考驗長期產業積累。先進製程所需要的光刻膠性能，往往無法通過一次技術突破實現，而是需要在數十年的研發、驗證和量產過程中不斷迭代。

配方堆起的護城河

很多人在討論光刻膠的時候，把它看作是一個產品。但實際上，光刻膠更像是一個龐大的「配方家族」。

我們常見的劃分是按照曝光波長來分代，有G-line、I-line、KrF、ArF以及EUV，波長越長，技術門檻越高。其中，ArF和EUV光刻膠被認為是行業皇冠上的明珠。

這還只是家譜的第一頁。當光刻膠真正進入晶圓廠，會發現即使是同一種光刻膠，在不同產線、不同產品上需要的配方也不同。同樣是ArF光刻膠，邏輯晶片、DRAM、NAND閃存需要不同配方；同一顆晶片上，不同工藝層甚至也會使用不同配方。這些「配方庫」的實踐，恰恰是日本長期佔據全球光刻膠主要市場，構建起極高的技術壁壘的關鍵。

早在上世紀60年代，東京應化就已經開始全面佈局光刻膠業務；1972年，日本第一款半導體用正性光刻膠問世。此後，JSR、信越化學等企業陸續進入市場，圍繞半導體制造所需的光刻材料持續投入研發。

更為關鍵的是，日本光刻膠的發展，正好趕上了全球半導體發展的黃金時期，70年代的集成電路、80年代的日本半導體再到90年代的全球晶圓廠持續擴張，日本光刻膠每一次的迭代都是站在真實的產業需求上，因此他能比別人更早地生產並量產ArF/EUV光刻膠。

對於光刻膠而言，時間和實踐都是最重要的競爭壁壘。每一代產品都需要在客戶產線上完成驗證，每一次工藝升級都會沉澱新的配方經驗。幾十年下來，日本企業積累的除了專利，還有數千種經過量產驗證的工藝配方，以及與全球主要晶圓廠共同研發形成的技術體系。這也是日本光刻膠為何難以撼動的根本原因。

不過，日本光刻膠企業的技術優勢，並不意味着他們可以隨時切斷對中國市場的供應。原因很簡單，光刻膠本質上是一門依賴規模效應的生意。一款先進光刻膠從實驗室走向量產，需要投入巨量研發，但真正投產，能夠消化這些成本的客戶數量卻十分有限。根據TECHCET的測算，2025年全球半導體用光刻膠的市場規模，只有大約33億美元。

而中國，恰恰是全球最重要的光刻膠消費市場之一。到2024年，中國光刻膠市場規模將達到7.71億美元，按年增長42.25%，佔全球需求的28.2%，按行業估算，目前中國的光刻膠需求達到全球的三分之一。隨着國內晶圓廠持續擴產，中國市場對東京應化、JSR、信越化學和富士膠片等日本企業的重要性也在不斷提升。

從2023年7月日本經濟產業省對23種先進半導體制造設備實施出口管制；到2025年1月進一步擴大半導體和量子技術相關出口管制;再到同年4月新增CMOS集成電路、GAAFET相關技術以及量子計算機等項目進入許可管理範圍。日本一直沒有將光刻膠納入出口禁令。從市場供需來看，日本光刻膠產業更依賴中國市場的消化，如果斷供，對日本的影響甚至比對中國的都大。

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日本已不是光刻膠霸主

今年1月，中國日報發布了一篇名為《中國對日本可能實施的禁令並不在意》的文章。文章採訪了光刻膠產業鏈涉及的企業。他們都不約而同表達同一個觀點：過去幾年，中國半導體行業一直在為光刻膠自主化做準備，即使日本限制供應，也能迅速在國內外找到替代品來填補缺口。

2024年中國半導體光刻膠整體國產化率約為15%左右，五年前這個比例還只有5%左右。當下，成熟製程使用的G-line、I-line光刻膠國產化率已經超過30%；KrF光刻膠則實現關鍵突破，自給率從2024年的不足10%提升至2025年的15%以上，進入規模化供貨階段，ArF和EUV光刻膠則在進一步攻克中。

北京科華代表着國產KrF光刻膠商業化最成熟的一批企業。相比早期「能否做出來」的階段，北京科華目前已經成為國內KrF光刻膠主要供應商之一。公開資料顯示，其產品已進入多家本土晶圓廠供應鏈，相關上海基地新增的千噸級半導體光刻膠產能也已進入試生產階段。與此同時，公司還在向ArF光刻膠及上游樹脂材料延伸，逐步形成從關鍵原材料到成品光刻膠的完整體系。

南大光電也是國產光刻膠頭部企業。截至2025年，累計有6款ArF光刻膠產品通過客戶驗證並銷售，全年光刻膠業務收入突破2000萬元。此外，南大光電還是國內唯一實現28nm浸沒式ArF光刻膠商業化批量供貨的企業，在高端ArF光刻膠領域佔據領先地位。

另一家國產光刻膠企業徐州博康，產品覆蓋28nm至90nm工藝節點，全系列30餘款光刻膠產品已通過多家頭部客戶驗證，ArF光刻膠產品進入中芯國際與長江存儲的供應鏈，最近還通過國內頭部晶圓廠的驗證，開始批量供貨。

從國際產業格局來看，中國面臨的情況其實也沒有很嚴峻。日本並不是唯一具備高端光刻膠供應能力的國家。2019年日韓貿易摩擦之後，韓國投入大量資源推進光刻膠國產化，目前已經形成較為完整的ArF光刻膠供應體系，東進世美肯等企業的產品已進入三星等頭部晶圓廠供應鏈，在最難做的EUV光刻膠領域，其也只落後日本1至2代。若日本斷供，中國企業完全可以繞道韓國訂貨。

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事實上，回頭看這場「日本四大光刻膠巨頭斷供中國」的傳聞，最值得關注的或許不是消息真假，而是為什麼它總能引發市場如此大的焦慮。

過去很長一段時間裏，高端光刻膠確實是中國半導體產業鏈上的薄弱環節，日本企業也長期佔據主導地位。但與今時不同往日，日本仍然領先，但中國企業正在進入量產階段，韓國等國家也建立起了先進光刻膠供應能力。日本是全球光刻膠市場的絕對強者，卻已經不再只有唯一的供應者。

從這個角度看，即使未來日本進一步收緊供應，影響的更多是成本、認證和供應鏈調整，而不是產業停擺。

對中國半導體產業來說，真正重要的從來不是證明別人不會斷供，而是即便有人斷供，也依然擁有繼續向前的能力。

【本文獲《觀察者網》授權轉載。】