韓國晶片巨頭SK海力士（SK Hynix）一名前員工因涉嫌大批量竊取公司商業秘密，並以此作為履歷資料投遞給華為子公司海思等中國競爭企業，遭韓國檢方起訴。首爾高等法院8月9日作出二審宣判，認定其違反《防止不正當競爭法》及業務上背信等罪名成立，維持一審判決，判處該名金姓前員工有期徒刑1年6個月。

據韓國媒體《文化日報》及《首爾新聞》8月9日報道，涉案的金姓被告自2016年起任職於SK海力士，並於2018年1月至2022年9月底期間，被派往SK海力士中國銷售法人上海辦事處擔任駐外人員，負責客戶支援工作。

調查顯示，金某於2022年2月收到中國最大通訊設備企業華為旗下的海思技術有限公司（HiSilicon）等企業的跳槽提議後，萌生轉職意圖。

為編寫求職履歷，他違反公司保安規定，從公司文檔管理系統中打印了20頁與CIS（CMOS影像感測器）技術相關的商業秘密資料；隨後在同年2月至3月期間，分8次額外打印了8個相關文件，共計186頁資料。

此外，金某還將SK海力士的辦公手提電腦帶至居家辦公地點，使用自己的iPad對螢幕進行拍照。在此過程中，他共拍攝了170個文件、多達約5900頁的商業秘密資料進行無案外洩。

金某於2022年3月將部份資料引用於求職履歷中，提交給華為子公司；其後因該次跳槽被暫緩，他又於同年8月向另一家中國競爭企業投遞履歷，並向該公司的團隊負責人等額外洩露了SK海力士的其他商業秘密。

據悉，CIS技術是將鏡頭接收的光線轉換為電子影像信號的核心元件，廣泛應用於智能手機、汽車自動駕駛及醫療設備等領域。

在案件審理過程中，檢方曾指控金某洩露了用於AI的高頻寬記憶體（HBM）的關鍵「混合鍵合」（Hybrid Bonding）技術，涉嫌違反《產業技術保護法》。然而，一審及二審法院均認定該部份無罪。法院指出，雖然韓國產業通商資源部於2023年2月補發了確認書，但案發當時該項技術尚未包含在政府公告的「尖端技術及產品範圍」內，基於刑法「明確性原則」，不能以案發後的確認書追溯認定其構成違反《產業技術保護法》。

據《文化日報》報道，首爾高等法院刑事10-1庭在8月9日的二審量刑理由中嚴厲指責，被告大批量外洩商業秘密並透露給中國企業，罪質十分重。法官強調，這些商業秘密是被害企業多年投入大量人 me及物力資源換來的成果，「若對侵權犯罪從輕處罰，企業將失去專注於技術研發的動力，亦會導致海外競爭對手以人才引進為藉口，輕易奪取國內企業歷經辛苦累積的技術成果。」

不過，法院亦考慮到金某已承認所有犯罪事實並進行反省、遭洩露的大部份商業秘密在實際擴散前已被收回、被告無犯罪前科，以及在二審期間為SK海力士提存了1000萬韓元（約合5.7萬港元）公託金等有利情節，因此決定維持一審判監1年6個月的判決。