國產自家芯片技術大躍進，浸沒式DUV光刻機傳量產！據外媒最新消息，內地上海一間國企背景公司已秘密啟動國產浸沒式深紫外線DUV光刻機量產，首批設備預計今年交到中芯國際（SMIC）等大廠手上。雖然技術上標榜可以透過多重曝光硬推至7nm，但現實是產能極低，而且核心零件依然握在日本供應商手中。

上海公司集結人馬，中芯密密做測試

今次傳出量產消息的是上海「宇量昇科技」（Yuliangsheng Technology）。據外媒The Information報道，這間公司整合了內地多間半導體巨頭的研發隊伍。而中芯國際早在去年9月，就已經到手這部國產DUV浸沒式機台進行驗證。除了中芯國際，首批機台還會陸續交給華虹半導體同記憶體大廠長鑫存儲（CXMT）。不過受制於本土供應鏈問題，預計今年全年交付量僅5部左右，要等到2027年才有機會拉升到年產20部。

核心零件仍受日本掣肘

雖然內地聲稱大部分零件已經實現國產化，但依然有瓶頸存在，這部光刻機幾項極為關鍵的核心組件，目前依然嚴重依賴日本供應商。一旦外國供應鏈有任何風吹草動，這條量產線隨時又會被拖慢進度。

原生只能做28nm，硬上7nm代價極大

至於規格方面，這部國產光刻機在單次曝光下，原生極限其實只是28nm。如果要挑戰7nm晶片，就必須依靠多重曝光（Multipatterning）技術去硬堆。不過這種做法代價極高，除了套刻誤差（Overlay Error）會大幅飆升，更會直接拖垮晶圓良率。良率低就等於生產成本狂飆，短期內難以做到真正的經濟效益。

國產DUV設備邁入量產階段，是中國應對科技封鎖的重要里程碑，但在穩定度、運作效率、機台工藝，以及最重要的供應鏈自主度上，距離國際龍頭ASML依然有極大差距。

來源：Tom's Hardware