香港設計師KINYAN LAM入圍LVMH Prize準決賽 盤點6位值得關注新星

撰文:簡皓賢
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LVMH Prize 2026 準決賽名單日前正式公布,香港的新晉設計師 KINYAN LAM成功入圍準決賽的最後20強名單!要知道這項備受矚目的時尚界大賽,稱得上是來自世界各地的新晉設計師孵化搖籃,當中不少曾獲獎的設計師現已成功闖出名堂,包括 Simon Porte Jacquemus (Jacquemus 創意總監)、Grace Wales Bonner(Hermès 新任男裝創意總監)、井野將之(日本品牌Doublet 設計師)及 Rok Hwang(韓國品牌Rokh設計師)。究竟今屆有哪些入圍品牌值得大家關注?一物精選了其中6個設計師及其主理品牌,6個品牌各具文化底蘊與現代美學,絕對值得關注!

1. KINYAN LAM

港產設計師 KINYAN LAM 今次入圍 LVMH Prize 2026 二十強,成為繼 JOURDEN(2015) 與 PONDER.ER(2024) 後第三個獲此肯定的香港品牌。他於 2020 年於時裝界搖籃之一的倫敦時裝學院畢業,其後再於 2023 年創立同名品牌。

早在遠赴倫敦深造前,他於 HKDI 學習期間,便發現對植物印染的濃厚興趣;獲得獎學金後,他遠赴法國師從天然染色大師 Michel Garcia 深造,回港後致力以本地植物與中藥材開發天然染料與染印技術。

這段學習的經驗,影響他以天然染料與手工工藝作為品牌設計的主要元素,他以羊毛、麻、有機棉等天然纖維為底,結合植物染色、貴州傳統染織與刺繡,呈現大地色調與漸變紋理的獨特質感,每一項單品均展現他對這份對傳統工藝與可持續染色技術的堅持。

2. KARTIK RESEARCH

Kartik Kumra 於 2021 年在印度新德里創立品牌,主張「Indian Future Vintage」的設計理念,致力把印度各地的傳統工藝融合至當代時裝語言。品牌與在地工匠緊密合作,運用手工刺繡、Kantha 手工絎縫、Khadi 手紡棉布有料、以及鏡面裝飾等傳統技法,讓服飾保留細膩的人手痕跡與深厚的文化印記。

設計以天然纖維及具觸感層次的布料為基礎,透過密集圖騰刺繡、拼布結構與不對稱剪裁的組合,形成極具辨識度的立體輪廓。他的美學語言亦將印度服飾的悠久技藝與現代設計剪裁結合,呈現出一種介乎街頭與高級時裝品牌之間的獨特氣質。

3. SSSTEIN

近年火速冒起的 SSSTEIN 相信是今次入圍品牌較為受港人認知的品牌,這個被視為日本 Quiet Luxury 代表的 SSSTEIN 由淺川喜一郎於 2016 年在東京創立,品牌以 stillness and motion, minimal and maximal, mode and tradition 為核心,透過精準剪裁與高級面料,將經典男裝重塑為當代 unisex 輪廓。

淺川喜一郎擅長 Oversized Blouson、Double‑lapel 與 Reversible 外套及寬褲,並以 Paneling、Off Shoulder 與 Hand‑distress 等工藝,呈現寬鬆卻結構分明的比例。 SSSTEIN 於 2025 年獲得 Fashion Prize of Tokyo,單品亦被 END. 與 SSENSE 上架,品牌實力備受肯定。

4. SHINYAKOZUKA

由小塚信哉於 2015 年在東京創立的品牌 SHINYAKOZUKA,於 2018 年已率先獲得 Tokyo 新人設計師時尚大賞肯定。其品牌單品一向以鬆弛卻帶有重量感的輪廓見稱。 曾旅居倫敦的他深受西方古著、當地文化及建築風格影響,因此品牌亦把復古西方服裝的生活氣息,融合日本傳統和服的概念,結合成現代感服飾。

不少單品以「picturesque scenery(如畫般的情景)」為靈感來源,將他以繪畫、素描記錄下的風景轉化為布面配色、刷舊處理或局部圖案,令服裝像是一幅被穿在身上的畫面。

色彩方面多運用沉穩的藍、灰、卡其與柔和中性色,偶爾以對比色線條或拼布打破單品原有的靜謐感覺,使整體既低調實穿,又帶一點只屬於 SHINYAKOZUKA 的幽默與跳脫感,喜愛寬鬆剪裁的你絕對不能錯過。

5. ACT N°1

意大利品牌 ACT N°1 由 Luca Lin 與 Galib Gassanoff 於 2016 年創立,名稱有「生命中誕生第一幕」之意,成立翌年就已獲得意大利版《Vogue》主辦的"Who Is on Next?"冠軍。品牌融合中國古典元素、90 年代Grunge風格以及阿塞拜疆傳統工藝。

單品以西裝與丹寧為基礎,疊加薄紗、荷葉與雕塑感元素,透過不對稱結構、混合材質與可拆解細節,詮釋身份與性別的流動性。國際巨星如Beyoncé 與 Lady Gaga 等均曾著用,展現其國際影響力。

6. LII

重慶出身的 Zane Li 於 2023 年自紐約時裝學院 FIT 畢業後創立 LII,以簡潔但極具辨識度的剪裁建立起一套都會衣櫥語言。她擅長用俐落線條、乾淨配色與克制細節,營造出冷靜、理性卻不冷漠的現代感。

同時,Zane 也把運動元素巧妙帶入高級成衣,以機能面料與運動風剪裁拼接正式版型
;以及微調肩膊、腰間線條與褲型剪裁,讓外觀保有西裝或襯衫的嚴謹感,穿起來卻輕盈、舒適且活動自如。在細節處理上,Zane 常以大膽的色彩評用、異材質拼接與多層次疊搭製造立體感,呈現出有層次的現代服裝美學。