華為晶片斷供危中有機?日媒稱中企擬與日本廠商研發光刻機

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晶片製造離不開光刻機,日媒近日報道中國有意聯合日本科技巨頭共同研發光刻機的消息。分析指,這將為遭美國斷供的華為帶來轉機。

據《日本經濟新聞》網站10月15日報道,業內人士透露,為了推進極紫外線以外的EUA光刻設備的研發進程,中國企業已經打算提供資金,聯合尼康(Nikon)、佳能(Canon)這兩間日本廠商共同研發光刻機。

華為目前正致力於解決晶片「無法自造」的難題。(Reuters)

日本調研機構GlobalNet曾推算,在2019年的全球半導體光刻設備市場,尼康EUA二代光刻機設備所佔據的市場份額為35%,佳能在EUA三代設備的市佔率則為26%。因此,如果能與中企合作突破「立體化」技術,這兩家企業的市場地位也將隨之提升。

另外,日本業內還認為,由於中國半導體市場規模龐大,加上又有超過1,000家半導體企業,完全有破局之法。

報道同時指出,在當前的關鍵設備供應受限之際,華為、中芯國際等中企完全可以「借道」其他企業進口半導體晶片、設計軟件和製造設備,從而間接採購和擴充相關生產設備。

在華為遭斷供後,中紀委機關報《中國紀檢監察報》曾發表題為《華為晶片斷供 「卡脖子」倒逼攻堅》的文章,形容華為面臨危機的同時,或許也是中國晶片產業涅槃的開端。

而華為消費者業務軟件部總裁王成錄也曾稱,晶片問題反而給了企業反思,沒有選擇就是最好的選擇。限制反而讓大家有一個非常好的機會,危、機並存。

另據光刻機龍頭企業阿斯麥(ASML)總裁兼首席執行官(CEO)Peter Wennink稱,「根據當前法規,ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統;對於直接從美國發貨系統或零件到受法規影響的客戶,ASML需獲得許可證。」外界分析亦認為,隨着時間的推移,華為還在迎來轉機。



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