美國國會議員提出新法案，擬收緊晶片設備出口管制，重點約束荷蘭、日本等盟友國家企業對華出口。

據彭博社報道，這項名為《硬體技術多邊協調管制法案》（MATCH Act）的草案星期四（4月2日）在眾議院提出，旨在強化對荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML，又譯艾司摩爾）、日本半導體製造設備巨頭東京電子（TEL）等公司半導體設備出口的現有限制。知情人士稱，參議院版本預計將在本月稍後推出。

法案核心在於確保上述外國企業面臨與美國同行同等、甚至更嚴苛的管制，包括禁止相關企業工程師在中國部份設施為設備提供維護與維修服務。同時，法案還將引入新的限制，適用於美企與外企，涵蓋應用材料、泛林集團及科磊等主要設備供應商。

上述企業生產的設備，是製造從英偉達（Nvidia，又譯輝達）人工智慧晶片到各類電子元件的關鍵工具。多年來，美國一直聯合日本和荷蘭，限制中國獲取最先進設備，這也成為制約中國人工智能晶片發展的重要瓶頸。

牽頭提出眾議院版本法案的議員鮑姆加特納（Michael Baumgartner）說，法案旨在「確保美國及盟友步調一致，堵住漏洞，維護技術優勢，並保障從武器系統到關鍵基礎設施的供應鏈安全」。推動參議院版本的參議員里基茨（Pete Ricketts）則稱，此舉有助於為美國企業營造「公平競爭環境」。

除協調現有對美歐日企業的管制措施外，法案還將擴大受控技術範圍。其中一項關鍵措施，是對阿斯麥所有深紫外浸沒式光刻機（DUV）實施更嚴格限制。這是在現行極紫外光刻機（EUV）對華全面禁售基礎上的進一步收緊，也意味著對荷蘭現有DUV管制的強化。

目前，荷蘭僅要求阿斯麥對部份先進浸沒式DUV設備申請出口許可，且主要針對特定終端用戶，而非覆蓋所有潛在中國客戶。一旦新法案落地，阿斯麥進入中國市場的空間將被顯著壓縮。

本文獲《聯合早報》授權轉載