華為晶片斷供危中有機？日媒稱中企擬與日本廠商研發光刻機
撰文：布藍
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晶片製造離不開光刻機，日媒近日報道中國有意聯合日本科技巨頭共同研發光刻機的消息。分析指，這將為遭美國斷供的華為帶來轉機。
據《日本經濟新聞》網站10月15日報道，業內人士透露，為了推進極紫外線以外的EUA光刻設備的研發進程，中國企業已經打算提供資金，聯合尼康（Nikon）、佳能（Canon）這兩間日本廠商共同研發光刻機。
華為目前正致力於解決晶片「無法自造」的難題。（Reuters）
日本調研機構GlobalNet曾推算，在2019年的全球半導體光刻設備市場，尼康EUA二代光刻機設備所佔據的市場份額為35%，佳能在EUA三代設備的市佔率則為26%。因此，如果能與中企合作突破「立體化」技術，這兩家企業的市場地位也將隨之提升。
另外，日本業內還認為，由於中國半導體市場規模龐大，加上又有超過1,000家半導體企業，完全有破局之法。
報道同時指出，在當前的關鍵設備供應受限之際，華為、中芯國際等中企完全可以「借道」其他企業進口半導體晶片、設計軟件和製造設備，從而間接採購和擴充相關生產設備。
在華為遭斷供後，中紀委機關報《中國紀檢監察報》曾發表題為《華為晶片斷供 「卡脖子」倒逼攻堅》的文章，形容華為面臨危機的同時，或許也是中國晶片產業涅槃的開端。
而華為消費者業務軟件部總裁王成錄也曾稱，晶片問題反而給了企業反思，沒有選擇就是最好的選擇。限制反而讓大家有一個非常好的機會，危、機並存。
另據光刻機龍頭企業阿斯麥（ASML）總裁兼首席執行官（CEO）Peter Wennink稱，「根據當前法規，ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統；對於直接從美國發貨系統或零件到受法規影響的客戶，ASML需獲得許可證。」外界分析亦認為，隨着時間的推移，華為還在迎來轉機。