路透社12月17日引述消息人士報道，中國科研團隊2025年初已在深圳製造出極紫外光（EUV）光刻機原型機，目前進入測試階段，但尚未生產出可運作的晶片。該國產原型機主要用於生產人工智慧、智慧型手機及高端計算所需的尖端晶片，此被視為突破美國技術封鎖、打破西方壟斷的重要一步。

據報道，該原型機由前荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML，艾司摩爾）公司的工程師團隊參與開發，在技術受限的情況下，團隊採取「逆向工程」方式研製，同時透過二手市場取得舊款設備零件展開研究與改進，消息人士透露，目前這台原型機已能成功產生極紫外光，但尚未能生產出可運作的晶片。

報道指，迄今為止，惟有阿斯麥這一家公司掌握EUV技術。該公司生產的機器是英偉達（Nvidia，又譯輝達）、英特爾（Intel）和三星（Samsung）等生產尖端晶片不可或缺的設備。美國自2018年起施壓荷蘭，要求其阻止阿斯麥向中國銷售EUV系統。阿斯麥則向路透社指，從未向中國客戶銷售過任何EUV系統。